공초점현미경 유신재 보유장비
| 유신재 교수 보유장비 현황 |
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| 보유장비 |
| 장비명 |
저압 플라즈마 발생장치 |
| 원리 및 특성 |
두 개의 원통형 전극 사이의 전기장을 통해 플라즈마 발생함. 1 mTorr 이하의 낮은 압력에서 발생 가능함. |
| 규격 |
인가전력 : < 500 W 구동압력 : 0.1 ~ 500 mTorr |
| 적용분야 |
고종횡비 식각 공정 |
| 장비사진 |
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| 장비명 |
유도결합형 플라즈마 발생장치 |
| 원리 및 특성 |
평면형 코일을 통해 유도되는 자기장에 의해 발생하는 전기장을 통해 플라즈마 발생함. 플라즈마 밀도가 높음. |
| 규격 |
인가전력 : < 500 W 구동압력 : 10 ~ 500 mTorr |
| 적용분야 |
반도체 식각 및 증착공정 |
| 장비사진 |
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| 장비명 |
축전결합형 플라즈마 발생장치 |
| 원리 및 특성 |
두 개의 전극 사이에 RF 전력을 인가하여 생기는 전기장을 통해 플라즈마 발생함. 바이어스 전압이 크게 발생함. |
| 규격 |
인가전력 : < 500 W 구동압력 : 10 ~ 500 mTorr |
| 적용분야 |
반도체 식각 및 증착공정 |
| 장비사진 |
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