공초점현미경 이영석 보유장비
이영석 교수 보유장비 현황 |
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보유장비 |
장비명 |
전기방사 장비 |
원리 및 특성 |
고압의 전류를 통해 나노 크기의 섬유 제조 |
규격 |
- |
적용분야 |
피치계 섬유 제조 |
장비사진 |
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장비명 |
고온원심분리기 |
원리 및 특성 |
용융 원심분리를 통한 이방성 및 등방성 분리 |
규격 |
- |
적용분야 |
피치의 이방성 및 등방성 함량 제어/ 피치의 이방성 및 등방성 성분 분리 |
장비사진 |
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장비명 |
Spin coater |
원리 및 특성 |
회전을 통한 재료의 마이크로에서 나노 미터의 균일한 코팅 증착 |
규격 |
- |
적용분야 |
재료 표면 코팅 |
장비사진 |
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장비명 |
비표면적 측정 장비 |
원리 및 특성 |
물리흡착 및 화학흡착 현상 이용, 시료 소재 관계없이 분말 또는 괴상의 비표면적 측정 |
규격 |
- |
적용분야 |
다공성 재료 비표면적 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
전기화학 장비 |
원리 및 특성 |
배터리의 전기적 평형 상태와 열적 평형 상태를 벗어나지 않는 범위에서 응답된 전압 및 전류 신호 통해 진폭 위상의 변화 측정 |
규격 |
- |
적용분야 |
배터리의 Cyclic Voltammetry 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
배터리 분석장비 |
원리 및 특성 |
배터리의 전기화학적 특성 측정 |
규격 |
- |
적용분야 |
리튬이차전지의 용량 및 사이클 분석/ 리튬이차전지의 율속 특성 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
로터리킬른 |
원리 및 특성 |
회전 및 열처리를 통한 재료의 특성 변화 |
규격 |
- |
적용분야 |
CH4을 통한 재료의 CVD 탄소 코팅/ 석유계 유분을 통한 재료의 탄소 코팅 |
장비사진 |
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장비명 |
수중 플라즈마 반응기 |
원리 및 특성 |
수열 반응을 통한 플라즈마 작용 |
규격 |
- |
적용분야 |
수중 플라즈마 처리를 통한 금속 산화물 제조 |
장비사진 |
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장비명 |
UV-VIS spectrometer |
원리 및 특성 |
가시광선과 자외선의 파장하에서 물질에 대한 빛의 투과도 및 흡광도 분석 |
규격 |
- |
적용분야 |
염료 분해능 측정 등 |
장비사진 |
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장비명 |
용융방사 장비 |
원리 및 특성 |
정전기력을 이용한 방사 장비 |
규격 |
- |
적용분야 |
고온에서 용융된 피치를 통한 피치 섬유 제조 |
장비사진 |
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장비명 |
접촉각 측정기 |
원리 및 특성 |
재료의 Contact angle meter 측정 |
규격 |
- |
적용분야 |
표면 처리된 재료의 Contact angle meter 분석 , Contact angle meter 계산을 통한 재 |
장비사진 |
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장비명 |
Gas chromato graphy (GC-7890) |
원리 및 특성 |
저분자, 휘발성, 기화, 이온화하는 유기 화합물 중 특정성분함량 분석 |
규격 |
- |
적용분야 |
가스 화학종 정량 및 정성 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
편광현미경 |
원리 및 특성 |
일정 방향으로 진동하는 빛만 투과시켜 물질에 따라 서로 다른 빛의 진동 방향 관찰 |
규격 |
- |
적용분야 |
피치의 이방성 및 등방성 구조 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
피치 개질기 |
원리 및 특성 |
피치 합성 및 특성 제어 |
규격 |
- |
적용분야 |
반응 조건을 통한 피치 특성 제어 , 다양한 탄소 전구체를 원료로 피치 합성 |
장비사진 |
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장비명 |
가스센서 장비 |
원리 및 특성 |
가스화학종에 따른 기판 저항 측정 |
규격 |
- |
적용분야 |
탄소 다공성 재료의 N,F,O 흡착 특성 분석 , 표면 처리된 기판의 N,F,O 흡착 특성 분석 |
장비사진 |
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장비명 |
불소화 장비 |
원리 및 특성 |
불소 가스로 재료의 표면 개질 |
규격 |
- |
적용분야 |
온도, 압력 및 시간을 변수로 불소 표면처리 특성 제어 , 불소 및 함산소불소화를 통한 재료의 친수성/소수성 제어 |
장비사진 |
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장비명 |
플라즈마 반응기 |
원리 및 특성 |
가스 화학종에 따른 소재에 표면 처리 |
규격 |
W.140 x D.200 x H.110 (mm) / W.250 x D.300 x H.200 (mm) |
적용분야 |
다양한 재료 표면의 - CF4 가스를 통한 F 원소 표면처리 - O2가스를 통한 O 원소 표면처리 - N2가스를 통 |
장비사진 |
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